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ユーザー動向
2009年04月22日 ユーザー動向
凸版印刷、IBMとの共同開発の成果として半導体向けフォトマスクの製造プロセスを構築

 凸版印刷(東京都千代田区、足立直樹社長)は、4月、朝霞フォトマスク工場(埼玉県新座市)内に、IBMとの共同開発により確立した新たなフォトマスク製造プロセスを構築した。
このフォトマスクは32nm(ナノメートル:1nmは10億分の1メートル)および28nm半導体に対応したもので、IBMのフォトマスク工場(米国バーモント州・エセックスジャンクション)で製造されたフォトマスクと互換性を持ち、IBMから認定を取得している。
 フォトマスクとは、半導体製品を製造する際に不可欠な回路原版。現在の半導体業界では、回路線幅32nmプロセスでのチップ量産に向けた準備が最終段階を迎えている。さらに、通信、画像処理などの最先端デバイスにおいては、より以上の高性能化、低消費電力化、低コスト化も求められている。これらを実現するために、32nm向けの設計ノウハウ・製造技術・製造設備を有効活用した、より微細28nm半導体への関心が高まっている。
 この市場のニーズに応えるために、凸版印刷は朝霞工場内に32nmおよび28nm対応フォトマスクの製造プロセスを構築した。このプロセスは、半導体メーカーが進める次世代半導体開発の加速に大きく寄与する。
 今後も凸版印刷は、日本、米国、欧州、アジア各国で高品質な製品をタイムリーに提供できるグローバルフォトマスクメーカーとして、世界中の半導体メーカーを強力にサポートしていく。


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